Micro-nano technologies
Description
Objectifs
The goal of the course is to introduce the techniques used in the micro-electronics industry for the fabrication of integrated circuits (photolithography, growth and deposition of thin films, doping, etching techniques), as well as various optical and electrical characterization techniques.
The physical and the chemical processes involved in these techniques are studied.
The complete fabrication process of NMOS and CMOS circuits is presented.
The students are also initiated to the design and the simulation of integrated circuits.
Pré-requis
Semiconductor physics (electrons, holes, doping, band structure).
Design and working principle of basics electronics components (PN junction, MOS transistor).
Évaluation
L’évaluation des acquis d’apprentissage est réalisée en continu tout le long du semestre. En fonction des enseignements, elle peut prendre différentes formes : examen écrit, oral, compte-rendu, rapport écrit, évaluation par les pairs…
En bref
Crédits ECTS : 3.0
Nombre d’heures : 23.0

INSA Toulouse
135 avenue de Rangueil
31077 Toulouse cedex 4
Tél : 05 61 55 95 13
Fax : 05 61 55 95 00

Dans un souci d'alléger le texte et sans aucune discrimination de genre, l'emploi du genre masculin est utilisé à titre épicène.